戊烷脒溶液微生物培養(yǎng)基、細(xì)胞培養(yǎng)基、菌種培養(yǎng)基、進(jìn)口培養(yǎng)基、國產(chǎn)培養(yǎng)基公司現(xiàn)貨直銷，培養(yǎng)基價(jià)格、培養(yǎng)基報(bào)價(jià)、培養(yǎng)基批發(fā)，歡迎有培養(yǎng)基需要的科研工作者！
戊烷脒溶液選擇性培養(yǎng)基
•選擇性培養(yǎng)基均含有營養(yǎng)物（增菌劑）和抑菌劑（選擇劑）。
•標(biāo)本接種于這類培養(yǎng)基后，由于抑菌劑的選擇性抑制作用，使所要分離的病原菌得到較好的繁殖，而其他菌被抑制。
•抑菌劑的種類很多，如孔雀綠、煌綠、檸檬酸鈉、膽鹽、四磺磺酸鈉等，但抑菌劑的加入量需準(zhǔn)確，有的可能水溶液無菌配制冷藏備用，有的又不耐高熱，配制無需高壓滅菌。
更多相關(guān)產(chǎn)品：C11H14N4  18ZC  19213-23-1  (S)-(?)-3-氨基奎寧環(huán)二鹽酸    (S)-(?)-3-Aminoquinuclidine dihydrochloride    C15H11ClO2  0R64  28920-43-6 
        C11H14N3Cl  13B6  116290-72-3  (2R)-2-BOC-氨基-3-苯磺酰-1-(2-四水吡喃基氧基)丙烷    (2R)-2-BOC-Amino-3-phenylsulfonyl-1-(2-tetrahydropyranyloxy)propane     μ-氯-μ-亞[二(環(huán)戊二烯基)鈦]-二鋁    μ-Chloro-μ-methene[bis(cyclopentadienyl)titanium]Dimethylalumiun
        C11H14N2O6S  0ZTM  198572-71-3     C13H18AlClTi  0V6X  67719-69-1  尿素過氧化氫復(fù)合物    Urea hydrogen peroxide adduct
        C11H14N2O5  1AQB  4097-36-3  芴丁酯    Flurenol butyl ester    CH6N2O3  03J8  124-43-6  4-(2-吡啶偶氮)間苯二酚單鈉鹽水合物    4-(2-Pyridylazo)resorcinol monosodium salt hydrate
        C11H14N2O5  1AQB  4097-36-3  芴丁酯    Flurenol butyl ester    C11H8N3NaO2·xH2O  0LQ8  13311-52-9  4-(2-吡啶偶氮)間苯二酚單鈉鹽一水合物    4-(2-Pyridylazo)resorcinol monosodium salt monohydrate
        C11H14N2O3S  13T7  61592-45-8  2--4-氯丙酸    Mecoprop    C11H8N3NaO2?H2O  0N9Z  16593-81-0  3,5-二叔丁基-4-羥基丙酸    3,5-Di-tert-butyl-4-hydroxyphenylpropionic acid
        C11H14N2O3S  13T7  61592-45-8  2--4-氯丙酸    Mecoprop    C17H26O3  0PFK  20170-32-5  4--1-(2H)-酞嗪酮    4-Phenyl-1-(2H)-phthalazinone
        C11H14N2O2  1F4Q  57883-28-0  Z-酪氨酸-水合物    Z-Tyr-OhHydrate    C14H10N2O  0DWG  5004-45-5  頻哪醇硼烷    Pinacolborane
        C11H14N2O2  0V0L  65709-24-2  2-(2-甲氧)哌嗪一水    2-(2-Methoxyphenyl)piperazine monohydrate    C6H13BO2  0QGK  25015-63-8  炔丙基氯    Propargyl chloride
        C11H14N2O2  0LJN  13047-13-7  1,6-己二醇二丙烯酸鹽    1,6-Hexanediol diacrylate    C3H3Cl  06R8  624-65-7  三丁基乙炔基錫    Tributyl(ethynyl)tin
        C11H14N2O · HCl  1AHB  56227-55-5  4-氟苯脒肟    4-Fluorobenzamidoxime    C14H28Sn  08B8  994-89-8  三氟    Vanadium Oxytrifluoride
        C11H14N2O · HCl  1AHB  56227-55-5  4-氟苯脒肟    4-Fluorobenzamidoxime    VOF3  0M2V  13709-31-4  三氰基硅烷    Cyanotrimethylsilane
        C11H14N2O  1FG9  1134-01-6  烯丙基丙基二硫醚    Allyl Propyl Disulfide    C4H9NSi  0JYC  7677-24-9  三氯化釕    Ruthenium(III) chloride
        C11H14N2O  1C4H  112791-04-5  2-氫肉桂酸    2-Methylhydrocinnamic acid    RuCl3  0KPZ  10049-08-8  無水三氯化鋁    Aluminum trichloride anhydrous
        C11H14N2O  1C4H  112791-04-5  2-氫肉桂酸    2-Methylhydrocinnamic acid    AlCl3  0JS0  7446-70-0  三氯化鈦    Titanium(III) chloride
        C11H14N2O  1BRN  92841-65-1  3--5-戊-2-烯腈    3-methyl-5-phenylpent-2-enenitrile    TiCl3  0JZP  7705-07-9  乙酸錳(II)    Manganese(II) acetate
        C11H14N2O  1BRN  92841-65-1  3--5-戊-2-烯腈    3-methyl-5-phenylpent-2-enenitrile    C4H6MnO4  071N  638-38-0 
        C11H14N2O  1AAE  52485-52-6  聚(丙二醇)二丙烯酸    Poly(propylene glycol) diacrylate     戴斯-馬丁試劑    Dess-Martin periodinane
        C11H14N2O  1AAE  52485-52-6  聚(丙二醇)二丙烯酸    Poly(propylene glycol) diacrylate    C13H13lO8  0WV3  87413-09-0  1-(叔丁氧基羰基)咪唑    1-(t-Butoxycarbonyl)imidazole
        C11H14N2O  18F9  13754-38-6  2-(甲硫基)甲丙烯酰酸乙酯    2-(Methylthio)ethyl methacrylate    C8H12N2O2  0T47  49761-82-2  1,2-雙(二膦基)乙烷    1,2-Bis(diphenylphosphino)ethane
        C11H14N2O  14YM  485-35-8  氫化辛可寧    Hydrocinchonine    C26H24P2  09UH  1663-45-2  (-)-1,2-雙[(2R,5R)-2,5-二乙磷酰亞基]苯    (-)-1,2-Bis[(2R,5R)-2,5-diethylphospholano]benzene
        C11H14N2  1F42  6245-89-2  1,3-二氨基-2-丙醇    1,3-Diamino-2-propanol    362.48  0YPV  136705-64-1  α-萘酚苯甲醇    alpha-Naphtholbenzein
        C11H14N2  1A49  42549-09-7  1,3-二氯-1,3-二異丁基二鋁雜噁烷    1,3-Dichloro-1,3-diisobutyldialuminoxane solution    C27H18O2  03WT  145-50-6  四氧化釕    Ruthenium(VIII) Oxide
        C11H14N2  03XM  148-87-8  p-[(對(duì)氟)偶氮]-N,N-二苯胺    p-[(p-Fluorophenyl)azo]-N,N-dimethylaniline    RuO4  0PHQ  20427-56-9  乙酸銠(II)二聚體    Rhodium(II) Acetate Dimer
        C11H14INS  1AP8  60126-29-6  3,6,9,14-四硫雜二環(huán)[9.2.1]十四碳-11,13-二烯    3,6,9,14-Tetrathiabicyclo[9.2.1]tetradeca-11,13-diene    C8H12O8Rh2  0N30  15956-28-2  碳酸二乙酯    Diethyl carbonate
        C11H14INO2  15U6  161117-84-6     C5H10O3  02RZ  105-58-8  (1,3-二氧戊環(huán)-2-基)三溴化膦    (1,3-Dioxolan-2-yl)methyltriphenylphosphonium Bromide0NDS  16872-11-0  (1R,2S)-(?)-鹽酸    (1R,2S)-(?)-Ephedrine hydrochloride
鑒別培養(yǎng)基
•鑒別培養(yǎng)基有一般鑒別培養(yǎng)基和選擇性鑒別培養(yǎng)基之分。
•用于區(qū)別不同微生物種類的培養(yǎng)基稱為一般鑒別培養(yǎng)基，此類培養(yǎng)基中一般不加抑菌劑而只含指示劑。
•在培養(yǎng)基中加入某種抑制劑和指示劑，以抑制某些細(xì)菌生長，而促進(jìn)某種病原菌的繁殖，并使菌落具有一定特征，以助鑒別、分離。這類培養(yǎng)基稱為選擇性鑒別培養(yǎng)基。
厭氧菌培養(yǎng)基
•厭氧菌的分離、培養(yǎng)和鑒別用的培養(yǎng)基，稱為厭氧菌培養(yǎng)基。
•由于厭氧菌自身缺乏有氧代謝*的各種酶，所以厭氧菌在正常的大氣環(huán)境下既不能生長又不能生存。
•通常用心、腦或其他臟器浸液配制厭氧菌培養(yǎng)基，并常需加入硫乙醇酸鈉、半胱氨酸、葡萄糖、肝塊、肉渣、還原鐵、脫脂棉或活性炭等還原劑和除氧材料
厭氧菌培養(yǎng)基
•在液體培養(yǎng)基中還可加入刃天青或美蘭作氧化還原指示劑以觀察培養(yǎng)基的含氧程度。
•使培養(yǎng)基保持較低的氧化還原電勢，以保證厭氧菌生長的良好環(huán)境。也可在培養(yǎng)基表面加液體石蠟。