CHO 培養(yǎng)基基礎(chǔ)微生物培養(yǎng)基、細(xì)胞培養(yǎng)基、菌種培養(yǎng)基、進(jìn)口培養(yǎng)基、國(guó)產(chǎn)培養(yǎng)基公司現(xiàn)貨直銷(xiāo),培養(yǎng)基價(jià)格、培養(yǎng)基報(bào)價(jià)、培養(yǎng)基批發(fā),歡迎有培養(yǎng)基需要的科研工作者! CHO 培養(yǎng)基基礎(chǔ)選擇性培養(yǎng)基 •選擇性培養(yǎng)基均含有營(yíng)養(yǎng)物(增菌劑)和抑菌劑(選擇劑)。 •標(biāo)本接種于這類(lèi)培養(yǎng)基后,由于抑菌劑的選擇性抑制作用,使所要分離的病原菌得到較好的繁殖,而其他菌被抑制。 •抑菌劑的種類(lèi)很多,如孔雀綠、煌綠、檸檬酸鈉、膽鹽、四磺磺酸鈉等,但抑菌劑的加入量需準(zhǔn)確,有的可能水溶液無(wú)菌配制冷藏備用,有的又不耐高熱,配制無(wú)需高壓滅菌。 更多相關(guān)產(chǎn)品:ZrSe2 1CCP 12166-47-1 5'-脫氧-5-氟尿苷 5'-deoxy-5-fluorouridine H3PO4 0JXY 7664-38-2 N-月桂?;?N'-羥乙基乙二胺丙酸鹽 laurylamide propionate JHZ-101 ZrSe2 1CCP 12166-47-1 5'-脫氧-5-氟尿苷 5'-deoxy-5-fluorouridine H4MnNO7P2 00D3 10101-66-3 溴麥角隱亭 Bromocriptine ZrP2 012Z 12037-80-8 硒化鋯 Zirconium selenide H4N2NiO6S2 0M53 13770-89-3 堿式碳酸鎳 Nickel carbonate basic ZrP2 012Z 12037-80-8 硒化鋯 Zirconium selenide H4O4Th 010V 13825-36-0 鈮(Ⅳ)酸鈣 Calcium niobate(Ⅳ) ZrO(NO3)2 1CVH 71965-17-8 硼烷二硫醚 Borane dimethyl sulfide complex H4O8P2Zn.2H2O 0KHY 13598-37-3 氫氧化高鈷 Cobalt(Ⅲ)hydroxide ZrO(NO3)2 1CVH 71965-17-8 硼烷二硫醚 Borane dimethyl sulfide complex H4P2O6 1CX0 7803-60-3 4--1,2,3-噻重氮-5-甲酰胺 4-Methyl-1,2,3-thiadiazole-5-carboxamide ZnSO4?6H2O 1D00 13986-24-8 碘化鎂 Magnesium iodide H5NO3S 0KTQ 10192-30-0 2-丁酮肟 2-Butanone oxime ZnSO4?6H2O 1D00 13986-24-8 碘化鎂 Magnesium iodide H8N2NiO8S2.6H20 0N0J 15699-18-0 ZnSiF6.6H2O 00UF 18433-42-6 硅酸鉛 Lead silicate H8N2O8S2 0K0G 7727-54-0 硫酸銨 Ammonium sulfate ZnSiF6.6H2O 00UF 18433-42-6 硅酸鉛 Lead silicate H8O12S2Zr 0JRY 7446-31-3 硫酸肼 Hydrazine sulfate ZnSeO4?6H2O 1D1B 7446-24-4 氟化鉀 Potassium fluoride HB4O7?3H2O 1CJ9 10135-84-9 氟化氫鉀 Potassium hydrogen fluoride ZnSeO4?6H2O 1D1B 7446-24-4 氟化鉀 Potassium fluoride HBrO 1D42 13517-11-8 三氧鎓四氟硼酸 Trimethyloxonium tetrafluoroborate ZnO 095D 1314-13-2 5-N-丙基尿嘧啶 5-N-Propyluracil HC≡CMgBr 16KW 4301-14-8 1--5-氨基吡唑 1-Methyl-1H-pyrazol-5-ylamine ZnO 095D 1314-13-2 5-N-丙基尿嘧啶 5-N-Propyluracil HfS2 1CCR 18855-94-2 硒化釩 Vanadium selenide ZnI2 0KSN 10139-47-6 Iodomethane Hg(C6H5COO)2 1CMN 583-15-3 二水水楊酸鍶 Strontium salicylate dihydrate ZnI2 0KSN 10139-47-6 Iodomethane Hg2(ClO3)2 1D2J 1029-44-7 氯酸(Ⅰ) Thallium(Ⅰ)chlorate ZnCrO4 0LY8 13530-65-9 Hg2(IO3)2 1D4P 13465-35-9 6-乙酰氨基-3-溴吡啶羧酸 6-Acetamido-3-bromopicolinic acid ZnCrO4 0LY8 13530-65-9 Hg2CO3 1CLH 50968-00-8 碳酸雙氧鈾 Uranyl(Ⅵ)carbonate ZnCr2O4 1CDL 12018-19-8 Hg2O 1CHY 15829-53-5 醋酸鈷 Cobalt(II) acetate anhydrous ZnCr2O4 1CDL 12018-19-8 Hg2S 1CHZ 51595-71-2 硫酸鈷銨六水 Ammonium cobalt(II) sulfate hexahydrate ZnCl2?3NH4Cl 1CHW 52628-25-8 鈷 Cobalt Hg3(AsO4)2 1CXF 13437-80-4 ZnCl2?3NH4Cl 1CHW 52628-25-8 鈷 Cobalt HgClNH2 0KS0 10124-48-8 草酸鈉 Sodium oxalate ZnCl2 0JX2 7646-85-7 4,6-二羥基-5-溴嘧啶 5-Bromo-4,6-dihydroxypyrimidine HNaO3S 0JWG 7631-90-5 粘接胺 Adhesamine ZnCl2 0JX2 7646-85-7 4,6-二羥基-5-溴嘧啶 5-Bromo-4,6-dihydroxypyrimidine HNO2 1CV9 7782-77-6 一水亞硝酸鋰 Lithium nitrite monohydrate Zn3(AsO4)2?8H2O 1CXE 13464-44-4 1,3-二氯-2-丁烯 1,3-Dichloro-2-butene HNO3 0JZE 7697-37-2 N,N-二-4-亞硝基苯胺 N,N-Dimethyl-4-nitrosoaniline Zn3(AsO4)2?8H2O 1CXE 13464-44-4 1,3-二氯-2-丁烯 1,3-Dichloro-2-butene Ho(NO3)3?5H2O 1CVD 39675-76-8 六水合硝酸鈾酰 Uranyl(Ⅵ)nitrate hexahydrate Zn(MnO4)2?6H2O 1CGB 23414-72-4 七水磷酸錳(Ⅱ) Manganese phosphate heptahydrate HSeO3F 1D1F 14986-53-9 五氟基原硒酸 Pentafluoro-orthoselenic acid Zn(MnO4)2?6H2O 1CGB 23414-72-4 七水磷酸錳(Ⅱ) Manganese phosphate heptahydrate HSeOF5 1D1G 38989-47-8 吡啶氮氧化物 Pyridine N-oxide Zn(IO3)2 1D4N 7790-37-6 碘酸亞汞 Mercury(Ⅰ)iodate HTeOF5 1D1X 57485-27-2 硼 Sodium cyanoborohydride Zn(IO3)2 1D4N 7790-37-6 碘酸亞汞 Mercury(Ⅰ)iodate I2 0JUS 7553-56-2 3-氨基吲唑 1H-Indazol-3-ylamine Zn(ClO4)2?6H2O 0KLW 10025-64-6 十二烷二醇 Dodecane-1,2-diol IF5 1D4G 7783-66-6 溴化乙烯基三膦 Vinyltriphenylphosphonium bromi Zn(ClO4)2?6H2O 0KLW 10025-64-6 十二烷二醇 Dodecane-1,2-diol IF7 1D4H 16921-96-3 透明質(zhì)酸己糖 Hyaluronate Hexasaccharide Zn(ClO3)2 1D2H 10361-95-2 氯酸汞(Ⅰ) Mercury(Ⅰ)chlorate In 001J 7440-74-6 碘化鉀 Potassium iodide Zn(ClO3)2 1D2H 10361-95-2 氯酸汞(Ⅰ) Mercury(Ⅰ)chlorate InBr2 1CL7 21264-43-7 疊氮化 Thallium(Ⅰ)azide Zn(C17H33CO2)2 1CMV 557-07-3 二亞乙基三胺五乙酸釓 Gadopentetic acid InBr3 0LV3 13465-09-3 4-碘吡啶-2-甲酸 4-Iodopyridine-2-carboxylic acid Zn(C17H33CO2)2 1CMV 557-07-3 二亞乙基三胺五乙酸釓 Gadopentetic acid InC13 1CL6 10028-82-8 溴化銦(Ⅱ) Indium(Ⅱ)bromide 鑒別培養(yǎng)基 •鑒別培養(yǎng)基有一般鑒別培養(yǎng)基和選擇性鑒別培養(yǎng)基之分。 •用于區(qū)別不同微生物種類(lèi)的培養(yǎng)基稱(chēng)為一般鑒別培養(yǎng)基,此類(lèi)培養(yǎng)基中一般不加抑菌劑而只含指示劑。 •在培養(yǎng)基中加入某種抑制劑和指示劑,以抑制某些細(xì)菌生長(zhǎng),而促進(jìn)某種病原菌的繁殖,并使菌落具有一定特征,以助鑒別、分離。這類(lèi)培養(yǎng)基稱(chēng)為選擇性鑒別培養(yǎng)基。 厭氧菌培養(yǎng)基 •厭氧菌的分離、培養(yǎng)和鑒別用的培養(yǎng)基,稱(chēng)為厭氧菌培養(yǎng)基。 •由于厭氧菌自身缺乏有氧代謝*的各種酶,所以厭氧菌在正常的大氣環(huán)境下既不能生長(zhǎng)又不能生存。 •通常用心、腦或其他臟器浸液配制厭氧菌培養(yǎng)基,并常需加入硫乙醇酸鈉、半胱氨酸、葡萄糖、肝塊、肉渣、還原鐵、脫脂棉或活性炭等還原劑和除氧材料 厭氧菌培養(yǎng)基 •在液體培養(yǎng)基中還可加入刃天青或美蘭作氧化還原指示劑以觀察培養(yǎng)基的含氧程度。 •使培養(yǎng)基保持較低的氧化還原電勢(shì),以保證厭氧菌生長(zhǎng)的良好環(huán)境。也可在培養(yǎng)基表面加液體石蠟。 |