痕量分析的常用方法分述如下：

化學(xué)光譜法：常用于測(cè)定高純材料中痕量雜質(zhì)，對(duì)分析99.999～99.9999%純度材料，效果好，測(cè)定下限可達(dá)μg至ng級(jí)。此法須先用液-液萃取、揮發(fā)、離子交換等技術(shù)分離主體，富集雜質(zhì)，再對(duì)溶液干渣用高壓電火花或交流電弧光源進(jìn)行光譜測(cè)定；或在分離主體后，把溶液濃縮到2～5ml，用高頻電感耦合等離子體作光源進(jìn)行光譜測(cè)定。 

中子活化分析法：高純半導(dǎo)體材料的主要分析方法之一。用同位素中子源和小型加速器產(chǎn)生的通量為1012厘米-2·秒-1以上的中子流輻射被測(cè)定樣品。中子與樣品中的元素發(fā)生核反應(yīng)，生成放射性同位素及γ射線。例如Si+n→Si+γ。用探測(cè)器和多道脈沖高度分析器來(lái)分析同位素的放射性、半衰期及γ射線能譜，就能鑒定出樣品中的痕量元素。中子活化分析法的主要優(yōu)點(diǎn)是靈敏度高于其他痕量分析方法，可在ppm或ppb的范圍內(nèi)測(cè)定周期表中的大部分元素；使用高分辨率的Ge(Li)半導(dǎo)體探測(cè)器和電子計(jì)算機(jī)可顯著提高分析速度；樣品用量少并不被污染和破壞；同時(shí)能分析多種元素。對(duì)于中子吸收截面非常小，產(chǎn)生的同位素是非放射性的、或放射性同位素的半衰期很長(zhǎng)或很短的元素，不能用此法分析。